“石墨烯之父”又發現超級材料！半導體的未來將是它？(2)

這使得世界上第一片高質量、原子厚度的硒化銦薄膜被生產出來。它在室溫下的電子遷移率達到 2,000 cm2/Vs，遠遠超過了硅。在更低溫度下，這項指標還會成倍増長。

當前的實驗中，研究者們制作出的硒化銦長寬有幾微米，大約相當于一根頭發絲的橫截面那么大。研究人員們相信，只要結合現有的制作大面積石墨烯的技術，硒化銦的商業化生產指日可待。

國立石墨烯研究院負責人，同時也是這篇論文作者之一的 Vladimir Falko 教授說：

“國立石墨烯研究院開發的技術，能把材料的原子層進行分離，生產出高質量二維晶體。這項技術為開發應用于光電子學的新材料，提供了廣闊的前景。我們一直在尋找新的層狀材料做試驗。”

超薄硒化銦，是飛速增長的的二維晶體大家族中的一員。這些二維晶體，根據結構、厚度和化學成分的不同，有許多有用的屬性。對石墨烯和二維材料的研究，溝通了科學和工程技術。在今天，這是材料科學發展最快的領域。